台积电要研发1nm工艺:一台光刻机就要30亿 随着半导体工艺深入到5nm以下,制造难度与成本与日俱增,摩尔定律的物理极限大约在1nm左右,再往下就要面临严重的量子隧穿难题,导致晶体管失效。 科技 2023年07月29日 0 点赞 0 评论 199 浏览
ASML 价值 3.5 亿欧元的 High-NA EUV 光刻机已获得 10~20 个订单 早讯网2 月 13 日消息,荷兰半导体制造设备巨头 ASML 前天刚刚展示了其下一代高数值孔径 (High-NA) 极紫外 (EUV) 光刻机,还透露其 High-NA Twinscan EXE 光刻机的价格约为 3.5 亿欧元(备注:当前汇率约 27.16 亿元人民币)。相比之下,现有的EUV 光刻机价格约为 1.7 亿欧元(当前约 13.19 亿元人民币),当然具体价格要取决于具体型号和配置。 科技 2024年02月14日 0 点赞 0 评论 138 浏览