ASML 价值 3.5 亿欧元的 High-NA EUV 光刻机已获得 10~20 个订单
早讯网2 月 13 日消息，荷兰半导体制造设备巨头 ASML 前天刚刚展示了其下一代高数值孔径 (High-NA) 极紫外 (EUV) 光刻机，还透露其 High-NA Twinscan EXE 光刻机的价格约为 3.5 亿欧元（备注：当前汇率约 27.16 亿元人民币）。相比之下，现有的EUV 光刻机价格约为 1.7 亿欧元（当前约 13.19 亿元人民币），当然具体价格要取决于具体型号和配置。
